目的

胚が透明帯から孵化（以下Hatching）することは、子宮に着床し正常な発生を継続するのに必須である。哺乳類の胚のHatching過程については、胚や子宮から分泌される酵素の存在などが示唆されてきたが、ヒト胚では明らかになっていない。Hatcing開始部位についても同様である。今回我々はヒト胚のHatching開始部位について検討したので報告する。

方法

2003年1月から2011年12月までの期間、当院にてIVFを施行し、Hatching胚盤胞まで体外培養を行なった胚について後方視的に検討した。胚盤胞は培養4日目から6日目のいずれかで移植もしくは凍結を行ない、その際に写真を撮って胚の状態を記録した。その後写真にて胚盤胞のICMとHatching部位の両方を確認し、Hatchingがその周囲180度以内で開始している胚をICM側とし、それら以外と区別した。胚の１/2以上の細胞質がすでにHatchingしていた胚、ICMやHatching開始部位が確認できなかった胚はこの検討から除いた。培養は37℃、6％CO2、5％O2に調整したインキュベーター内にて、ドロップ培養法で行なった。

結果

273個のHatching胚盤胞を調べた結果、ICMの近くからHatchingしていた胚は179個、ICMの反対側からHatchingしていた胚は94個で、ICM側から有意にHatchingを開始していた。（179/273 vs. 94/273: p<0.01）。

結論

体外培養を行なったヒト胚はICMの近くからHatchingを開始することが示唆された。